인텔의 1.8나노 공정 개발 소식에 대한 팩트체크

인텔의 1.8나노 공정 개발 소식에 대한 팩트체크 

세 줄 요약

인텔이 1.8나노 공정을 개발하여 양산을 준비한다는 소식에 대해 의문점을 제기할 수 있다. 현재 인텔의 7나노 공정은 수율이 좋지 않고, 다른 파운드리 업체와 비교했을 때 기술적으로 밀릴 수 있다는 점을 고려해야 한다.

• 🔍 인텔의 1.8나노 공정 개발 소식에 의문점 제기
• - 현재 인텔의 7나노 공정은 수율이 좋지 않음
• - 다른 파운드리 업체와 비교했을 때 기술적으로 밀릴 수 있음

 

요약

삼성전자가 외신에서 큰 관심을 받고 있다는 소식에 대해 팩트체크를 해보자. 인텔이 1.8나노 공정을 개발하여 내년 1분기부터 양산을 준비한다는 발표를 했다. 하지만 이에 대한 의문점을 제기할 수 있다. 현재 인텔은 7나노 공정을 사용하고 있는데도 수율이 좋지 않다. 따라서 1.8나노 공정을 양산하는 것은 이른 시기라고 생각된다. 또한, 인텔의 공정 기술은 다른 파운드리 업체와 비교했을 때 밀리는 편이다. 이러한 이유로 인텔의 1.8나노 공정은 기술 과실이 아닌지 의심스러울 수 있다. 따라서 우리는 이 소식에 심각하게 대응할 필요는 없다. 

 

내용

인텔이 2023년에 하이 NA euv를 발표했다. 하이 NA euv는 1.8라노 웨이퍼를 사용하는 기술로, 2025년에 출시될 예정이다. 하이 NA euv는 기존의 euv보다 해상력이 높아지고 생산성이 향상되는 장비이다. 하지만 아직까지 인텔이 하이 NA euv를 양산하지는 않았으며, 양산이 이루어지더라도 상당한 시간이 필요할 것으로 예상된다.

하이 NA euv의 양산은 아직 확정되지 않았으며, 초기 버전의 양산은 2025년 말이나 2026년에 이루어질 것으로 예상된다. 이는 삼성전자와 TSMC가 euv 장비를 도입할 때 겪은 어려움을 고려한 것이다. 따라서 현재로서는 하이 NA euv를 사용한 1.8라노 웨이퍼의 양산은 현실적으로 어려운 일로 보인다.

현재 인텔은 7나노 공정을 사용하고 있으며, 1.8라노를 양산하기에는 기술적인 어려움이 있다. 따라서 인텔이 1.8라노를 양산한다는 주장은 현실적으로 이루어질 수 없는 것으로 보인다. 인텔의 공정 기술이 다른 파운드리와 비교했을 때 열세이기 때문에, 1.8라노 양산은 상당한 의문을 제기한다.

 

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